高瓴研发的“反射镜、光刻装置及控制方法”的euv光刻机专利，其实就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，duv光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而euv光源则是135nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、135nm光线实现7nm至2nm的工艺。
高瓴的研发的光刻机技术应该就是为了解决这个核心技术问题。
高瓴亲自下场研发光刻机，在于它已深刻认识到等待光刻机的缓慢研发遥遥无期
毕竟如今东大连先进制程的duv光刻机都不让asml出售给华国。
如此高瓴亲自下场研发光刻机技术，可以加速华国的光刻机技术的进展。
帮助华国，其实核心还是帮助自己。
国产的光刻机将形成了一条完整的产业链条，成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体。
在高瓴的深度介入之下，双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业陆续进行突破性的研发，如今高瓴在光线折射技术方面的突破，无疑将补上最后的重要短板，如此国产光刻机成为现实的日子进一步靠近。
高瓴，也实在是等不起，被卡脖子的滋味啊！
高瓴现在也是够悲壮的，这样重要的项目居然需要一家民营企业从头到尾自己啃硬骨头。
这没办法！
如果再过两年没有成功，高瓴可不敢想象高瓴科技会垮成什么样子！
而在高瓴集团2018年销售额的年度总结之中，高瓴科技和高瓴车辆的业绩，虽然有着自裁方面的影响，但是这个影响到目前为止，并没有太过于深的影响到高瓴科技的销量，这个影响会在2019年才会慢慢显现出来，所以2018年的销售量，较2017年，是狠狠地前进了一大步。
高瓴科技板块。
笔电产品notebook是高瓴一个比较低调，但是又比较稳定的业务板块。
不过自裁事件对于笔电业务影响并不是特别大，毕竟笔电内部的空间足够大，只要做到多核并联，就可