2016 年，魔都微电子推出首台前道制造用光刻机 ssx600 系列，支持 90nm 及以上制程芯片的生产，并开始向华芯国际、华虹等晶圆厂提供设备验证。
到了 2018 年，其将制程提升至支持 65nm，还迅速启动 28nm 制程光刻机的研发攻关。与此同时，ssb500 系列在国内封装光刻机市场的市占率飙升至超 80，并成功出口至东南亚市场，成为全球第三大封装光刻机供应商。
想到这里，秦奕抬起头，目光扫过众人，缓缓说道：“我觉得除了魔都光学仪器厂，我们还应该联系一下北国春城光机所和魔都光机所，他们之前就研发出了接触式光刻机和分步投影式光刻机，只是尚未实现产业化。”
“另外，水木大学和浙省大学的相关研究团队也都需要联系一下，我们得让各方力量尽早联合起来，一同攻克光刻机研制的难题。”