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速准确地控制气浮工作台的运动,保证晶圆在光刻过程中的位置精度。自动对准系统则能够实现晶圆与掩膜版的自动对准,overlay精度达到了±01μm,大大提高了光刻的效率和精度。
    “这些技术真是太强大了!”贾东旭感叹道,“有了系统的支持,我们离成功又近了一步。”
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